7月2日消息，國內(nèi)半導(dǎo)體材料廠商南大光電在互動平臺上表示，公司旗下的ArF光刻膠產(chǎn)品拿到小批量訂單，不過他們沒有透露具體的客戶名單。
今年5月份，南大光電發(fā)表公告，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺上通過認(rèn)證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得了認(rèn)證突破，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求。
在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在襯底上，經(jīng)過曝光(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上，形成與掩膜版完全對應(yīng)的幾何圖形。
半導(dǎo)體市場上主要使用的光刻膠包括g線、i線、KrF、ArF四類光刻膠，其中，g線和i線光刻膠是市場上使用量最大的。KrF和ArF光刻膠核心技術(shù)基本被日本和美國企業(yè)所壟斷。
此前南大光電曾在公告中表示，ArF光刻膠涵蓋的工藝技術(shù)很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)制造工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計(jì)算芯片等）。
