1月20日，拓荊科技股份有限公司（以下簡稱：拓荊科技）發布公告稱，根據未來發展規劃，公司擬以貨幣形式和/或非貨幣財產作價方式，合計出資人民幣50,000萬元設立全資子公司拓荊科技（沈陽）有限公司。該子公司主要圍繞公司現有主營業務開展相關經營活動，從事高端半導體薄膜沉積設備的研發、生產、銷售與技術服務。
據了解，拓荊科技成立于2010年4月，2022年4月正式登陸科創板。公司總部位于沈陽市渾南區，主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售與技術服務，主要產品為半導體薄膜沉積設備，包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個系列。
薄膜沉積設備是集成電路晶圓制造的核心設備，沉積的薄膜是芯片電路中的功能材料層。根據拓荊科技官網介紹，公司的薄膜沉積設備已廣泛應用于集成電路晶圓制造，以及TSV封裝、光波導、Micro LED、OLED顯示等高端技術領域。
拓荊科技認為，拓荊科技（沈陽）有限公司的成立有利于促進公司發展戰略的實施，完善和提升公司業務發展布局，增強公司盈利能力，進一步提升公司的綜合競爭力。
