2024年12月26日，普照材料8.6代及以下高精度掩模基板項目產(chǎn)業(yè)園正式開工。 據(jù)悉，普照材料高精度掩模基板項目將投資人民幣18億元，分為兩期建設(shè)，一期投資8億元，建設(shè)平板顯示用8.6代及以下高精度掩模基板項目，二期投資10億元，建設(shè)半導體用高精度掩模基板項目，最高可滿足28nm制程。項目建成后，普照材料將成為國內(nèi)規(guī)模最大、實力最強的掩模基板企業(yè)之一。 

掩模基板是平板顯示和半導體制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，用來承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等信息的重要載體。我國高端掩模基板材料被國外壟斷，已成為國內(nèi)半導體和平板顯示產(chǎn)業(yè)鏈“卡脖子”痛點，嚴重制約行業(yè)發(fā)展。 

據(jù)記者了解，普照材料成立于2003年，是國內(nèi)成立最早、技術(shù)領(lǐng)先的掩模基板研發(fā)、生產(chǎn)與銷售企業(yè)之一，積極投身掩模基板材料的研發(fā)生產(chǎn)和技術(shù)創(chuàng)新，打破國外企業(yè)壟斷，填補國內(nèi)空白。目前已完成100多項型號產(chǎn)品的開發(fā)認證及量產(chǎn)銷售，產(chǎn)品廣泛應用于新型平板顯示器件、集成電路、精細光學、線路板、微納加工及激光防偽等多種產(chǎn)業(yè)，遠銷美國、德國、韓國、日本等海外國家。 

此次普照材料開工的一期8.6代及以下高精度掩模基板項目，將引進高端的智能化數(shù)字化生產(chǎn)設(shè)備，建成高世代掩模基板生產(chǎn)線。總用地面積39979平方米，總建筑面積53678.05平方米，產(chǎn)品可滿足LTPS、LTPO、AMOLED、Micro LED等多種平板顯示掩模基板需求，計劃2025年12月開始投產(chǎn)。項目二期預計于2025年啟動建設(shè)，建成后產(chǎn)品可滿足半導體130nm-28nm制程用掩模基板需求，計劃2026年投產(chǎn)。項目投產(chǎn)后，將極大提升普照材料的產(chǎn)能和技術(shù)水平，優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)，促進智能化轉(zhuǎn)型升級，增強其市場競爭力。