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中微半導(dǎo)體胡建正:基于中微Prismo HiT3TM MOCVD設(shè)備的深紫外LED結(jié)構(gòu)優(yōu)化

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2019-12-11 來源:中國半導(dǎo)體照明網(wǎng)瀏覽次數(shù):529
為了使基于AlGaN材料的深紫外LED能夠更廣泛地應(yīng)用于固化、水和空氣的凈化及醫(yī)療消毒等各方面,必須要大幅地降低其成本。提高深紫外LED的性能和增大單爐產(chǎn)能是實現(xiàn)更低成本的兩個關(guān)鍵因素。與電光轉(zhuǎn)化效率超過70%的基于InGaN材料的藍白光LED相比,深紫外LED,尤其是UVC LED的效率還有很大的差距。

近日,由深圳市龍華區(qū)科技創(chuàng)新局特別支持,國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)主辦,深圳第三代半導(dǎo)體研究院與北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進中心有限公司共同承辦的第十六屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA 2019)暨2019國際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS 2019)在深圳會展中心召開。
 
期間,山西中科潞安紫外光電科技有限公司與中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司協(xié)辦的“固態(tài)紫外器件技術(shù)”分會如期召開。分會重點關(guān)注以氮化鋁鎵、氮化鎵為代表的紫外發(fā)光材料,以碳化硅、氮化鎵為代表的紫外探測材料,高效量子結(jié)構(gòu)設(shè)計及外延,以及發(fā)光二極管、激光器、光電探測器等核心器件的關(guān)鍵制備技術(shù)。
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會上,中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司主任工藝工程師的胡建正就用于深紫外的MOCVD的設(shè)備進行了探討。他介紹了紫外LED的應(yīng)用的應(yīng)用領(lǐng)域、市場規(guī)模,重點對采用的設(shè)備進行了介紹。
 
針對設(shè)備方面,他認為HIT3是目前主流的MOCVD的機型,而目前的紫外行業(yè)的主要參與者有多家。Seoul Viosys / SETi、LG Innotek、Crystal IS、Bolb Inc.、Nichia、Nitride Semiconductor、Epitop (Jason)、Sanan。中微也已經(jīng)開發(fā)了兩種量產(chǎn)MOCVD,18片/2寸和4片/4寸。
 
目前市面上主要采用的紫外設(shè)備(高溫MOCVD)有以下幾種:
胡建正配圖1
胡建正配圖2
帶噴頭式的Prismo HiT3TM噴頭/接收器示意圖
 
目前影響UVC LED器件的發(fā)光效率的主要因素:優(yōu)質(zhì)AlN/AlGaN的生長:藍寶石:大晶格與熱失配;氮化鋁基板:非常昂貴,體積小。高Al%組分的AlGaN的N型摻雜;高量子效率AlxGa1 xN/AlyGa1 yN MQW的設(shè)計:極化;很少或沒有銦,對缺陷有感覺。高Al%組分的AlGaN的P型摻雜。
胡建正配圖3
優(yōu)質(zhì)氮化鋁生產(chǎn)技術(shù)路線
胡建正配圖4
AlN在3種不同形貌圖形襯底上的外延生長
 
 
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