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出資420億日元,聯合三大日本本土半導體廠商聯合開發先進制程工藝

放大字體  縮小字體 發布日期:2021-03-24 來源:集微網瀏覽次數:239
據日經新聞報道,日本三大半導體供應商將聯手開發先進芯片制造技術。
 
這項計劃將整合制造光刻機的佳能、半導體成產廠商東京威力科創以及半導體設備商Screen Semiconductor Solutions。
 
知情人士透露稱,這一舉措將包括與臺積電、英特爾等國際廠商合作,尋求收復在全球半導體競賽中的失地。
 
這三家企業將與日本國家先進工業科學技術研究所(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)以及日本經濟產業省(METI)合作,METI提供大約420億日元(3.86億美元)的資金。
 
METI支持的項目尋求在本世紀20年代中期建立2納米工藝及以下的制程技術,并計劃建立一條原型生產線,以幫助開發蝕刻、清洗和其他設備。
 
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