來源：南大光電

 

2020年底，芯片大師曾報道突破！首款國產ArF光刻膠通過認證，可用于45nm工藝，南大光電自主研發的ArF光刻膠產品成功通過某閃存客戶使用認證，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求。

 

5月11日，南大光電在業績說明會中回復投資者稱，公司的ArF光刻膠開發和產業化項目目前已完成25噸光刻膠生產線建設，主要先進光刻設備，如 ASML浸沒式光刻機等已經完成安裝并投入使用。
 

圖：光刻膠是最重要的半導體材料之一

 

2020年底，公司自主研發的ArF光刻膠產品成功通過下游客戶的使用認證，成為通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠，各項光學性能均達到商用膠的水平，可實現先進光刻膠的國產替代。

 

南大光電公告稱，從目前的測試結果看，旗下ArF光刻膠性能和日本產品達到同等水平，是目前國內最先進的光刻膠產品，并實現了ArF光刻膠的國產化和本土化，打破了被國外長期壟斷的被動局面。

 

此外，光刻膠的產業化已經取得關鍵突破，南大光電透露已經拿到國產光刻膠的首個訂單，實現小批量銷售。目前，光刻膠產品正在繼續發往多個下游客戶進行驗證工作，驗證進展順利。
 

圖：半導體光刻膠的分類

 

對于關鍵的原材料、設備“卡脖子”問題，南大光電表示，目前已經除了配備用于質量檢測的光刻機等量測設備是國外進口的之外，光刻膠的主要原材料是自己開發和生產的，生產設備是聯合國內企業研制的，均不存在被卡風險。

 

產品規劃方面，南大光電稱，光刻膠項目2021年的主要任務是完成主要客戶認證，2022年啟動量產并力爭盡早實現盈利。

 

自2019年日本對韓國進行半導體材料出口管制以來，光刻膠已經成為產業上游自主化的關鍵，2021年以來，國內企業的光刻膠進口供貨持續緊張，威脅封測產能，因此，i線以上包括KrF、ArF和EUV光刻膠在內的產品自主化對我國半導體業有現實而長遠的意義。