據韓國媒體 BusinessKorea 報導，韓國產業通商資源部于 5 月 13 日對外宣布，全球光刻機龍頭大廠阿斯麥（ASML）計劃在韓國建設光刻設備再制造工廠及培訓中心，新廠預計在 2025 年建設完成。
所謂再制造，指的是以舊的機器設備為毛坯，采用專門的工藝和技術，在原有制造的基礎上進行一次新的制造，而且重新制造出來的產品無論是性能還是質量都不亞于原先的新品。
據媒體介紹，阿斯麥計劃未來四年將在韓國投資 2400 億韓元（約合 13.7 億人民幣），于京畿道華城市打造一座 EUV（極端遠紫外光源）光刻設備再制造廠以及一家培訓中心，由京畿道政府對阿斯麥在當地的授權、擴張業務提供協助。其 EUV 光刻設備再制廠的主要用途就是為韓國當地運行的 EUV 光刻機的維護和升級提供助力。
據IT之家了解，此前韓國發布半導體強國建設戰略規劃，將半導體研發稅額抵扣率提升至 40～50%，并且還擬斥資約 4500 億美元建設全球最大的芯片制造基地，韓國想躋身芯片半導體大國行列的意圖不言而喻，此次阿斯麥赴韓國建廠，對加快韓國半導體建設將會有很大的助力。
