知識產(chǎn)權(quán)機構(gòu)韓國特許廳10月31日宣布，將從11月1日起將國內(nèi)研究、開發(fā)或生產(chǎn)的顯示領(lǐng)域的專利申請指定為優(yōu)先審查對象，為期一年。具體對象包括與顯示材料、部件、設(shè)備，制造、設(shè)計技術(shù)直接相關(guān)的申請，以及韓國國內(nèi)生產(chǎn)或準備生產(chǎn)顯示相關(guān)產(chǎn)品、設(shè)備等企業(yè)的申請，和與顯示技術(shù)相關(guān)的國家研究開發(fā)項目成果相關(guān)的申請等。

特許廳預(yù)計，通過這個制度，原本平均需要16個月才能開始的一般專利審查周期，將縮短至平均2個月內(nèi)。與此同時，在10月31日結(jié)束的半導(dǎo)體領(lǐng)域的申請優(yōu)先審查對象指定，也將延長一年。如果申請與半導(dǎo)體材料、部件、設(shè)備，制造、設(shè)計技術(shù)直接相關(guān)的專利，也將能夠接受優(yōu)先審查。

此外，考慮到在申請優(yōu)先審查時，很多情況下很難預(yù)測專利分類（CPC）是否符合條件，因此將刪除與現(xiàn)有半導(dǎo)體相關(guān)的專利分類要求。據(jù)悉，這一措施是為了支持韓國企業(yè)在國際顯示領(lǐng)域?qū)＠麪幎巳找婕觿〉那闆r下，快速獲得專利而實施的。

（來源：集微）