致力于投影光刻機研發、生產、銷售與服務的上海微電子裝備有限公司(以下簡稱SMEE),日前攜SSB300系列LED步進投影光刻機亮相2014廣州國際LED展。首臺LED步進投影光刻機的推出,不僅滿足了國內LED廠家對更高品質產品的需求,更是扭轉了多年來國內LED芯片制造企業不得不使用國外二手設備的局面。在展會現場, SMEE市場開發部經理李志丹就光刻機產品特色及市場需求的相關問題接受了中國半導體照明網記者的采訪。
一次亮相:品質突出市場需求量大增
SSB300系列步進投影光刻機是國內首款專門面向亞微米2-6英寸晶圓光刻工藝需求的光刻設備,可支持LED圖形化藍寶石襯底生產工藝、LED芯片電極曝光、MEMS和Power Devices生產工藝等,具有國際先進水平。
其特點有:
第一、適用于2~6英吋基底LED的PSS和電極的光刻工藝。可以應對大翹曲藍寶石基底的曝光,能夠實現2~6英吋基底的自動切換,能夠在生產中實時監測基底面型,保證客戶在使用過程中不再受吸盤污染的困擾。
第二、采用高性能縮減式物鏡,確保亞微米分辨率和高曝光均勻性;精密特制的運動臺系統可實現高精度的圖形拼接與精確的套刻。
第三、具有低使用成本、高曝光均勻性、高產能等一系列優點,可滿足LED生產線對設備高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生產需求。除此之外,該系列產品機臺還能夠適應硅、SiC等多種基底的曝光、可選背面對準配置,使機臺的應用擴展至MEMS領域。
李志丹告訴記者說,“除了用光刻機來制作PSS外,現在越來越多的企業也需要應用光刻機做細電極,通過提高電極分辨率來提高芯片的發光量。不少國內LED芯片制造企業都在使用國外淘汰的二手機設備制作PSS,用國外進口的設備做電極,無法找到一臺既能夠做PSS,又能做電極的光刻機。SSB300系列光刻機針對LED芯片制造的這些問題進行專門設計,可實現PSS和電極兩項工藝同時兼備,已在客戶實際產線得到了應用,效果良好。目前,這種光刻機的市場需求量較大,尤其是今年增長勢頭迅猛。”
一心做光刻機:攜四大系列產品深耕市場
據了解,SMEE主要致力于量產型IC制造、先進封裝、3D-TSV、LED、MEMS、OLED-TFT、Power Devices等制造領域的投影光刻機系列產品的研發、生產、銷售與服務。本次推出的SSB300/10A投影光刻機已在客戶產線上實現量產導入。
經過過去十多年努力,SMEE已形成四大系列光刻機產品。應用于超大規模集成電路量產制造的600系列掃描光刻機,應用于先進封裝和微納制造的500系列步進光刻機,面向AM-OLED TFT光刻制造工藝的200系列投影光刻機,以及此次展會展示的面向亞微米2-6英寸晶圓的光刻市場需求的300系列投影光刻機。300系列光刻機支持亞微米節點條件下的各種半導體光刻制程,特別包括圖形化藍寶石襯底生產工藝、LED芯片電極曝光、MEMS和Power Devices生產工藝,具有廣泛的市場前景。
目前,在先進封裝光刻機市場領域,SMEE在大陸市場的占有率高達90%以上,幾乎囊括了所有國內知名封裝企業。對于LED領域,SMEE在2013年推出國內首臺LED投影光刻機,在客戶方逐漸獲得了認可,擁有了實際上線量產應用,現已在有兩臺設備分別在安徽和廣東裝機使用。
“前段時間公司業務主要集中在國內PSS方面廠商,接下來重心將轉移到做LED芯片電極廠商。今年我們將進一步拓展國內LED市場,同時在臺灣市場方面也將有大動作,目前正在和幾家客戶接觸,預計今年將會有幾臺設備成功交付廠商。”李志丹說
一路當先:源于光刻機行業門檻高
SMEE成立于2002年,并一直專注于多領域的光刻機研發,但涉足LED行業卻是在2013年。已經走過近十年的LED產業,為何國內目前只有SMEE一家在做LED光刻機呢?
李志丹告訴記者,“一個行業容易被復制就說明行業門檻較低。LED光刻機對企業的資金和技術門檻要求較高,設備涉及的光學、機械、運動控制、光電精密測量等都是公司的核心技術,并且基本都是行業最尖端的技術。所以說,到目前為止SMEE仍是國內唯一一家量產型LED步進投影光刻機的企業。”
至于為何選擇在近年涉足LED領域,李志丹說,因為LED光刻機設備相比封裝設備有其特殊需求;業內很多企業已經購買國外淘汰的低價二手機,進而倒逼新設備研發的成本控制要求很高。
但經過近幾年的市場調查發現,國外二手設備不能完全解決LED芯片制造企業問題。并且,隨著LED產業規模的不斷擴大,產業整體趨勢保持向上發展,所以公司才決定涉足LED行業,而且通過創新技術為客戶解決了二手設備難以解決的難題,獲得了客戶的認可。并且,現在市場和客戶對產品的要求越來越嚴格,國外二手設備已經不能滿足要求,所以越來越多的廠商會選擇新機臺。
一機多用:幫助LED芯片企業解決困擾
據了解,SSB300步進投影光刻機主要應用于LED行業前端PSS和電極制造環節。
在PSS環節,SMEE光刻機主要解決了困擾企業最主要的兩個問題:一是解決了晶片表面形貌差的問題。李志丹告訴記者,由于國外二手機的焦深較差,不能曝出較大且完整圖形,勢必會影響外延晶片發光的均勻性,并最終導致芯片良率下降。另一個是提高了LED芯片拼接精度。李志丹說,國外二手光刻機運動臺的定位精度只能達到500-600納米,這樣勢必會導致在LED芯片拼接時出現劣品。而擁有核心技術的SMEE光刻機高精度運動臺,定位精度可達到50-60納米,可以完美地完成LED芯片拼接任務。
在LED芯片電極方面,SMEE光刻機設備能做到不浪費芯片。而國外二手機因為標記的設計問題,在制造過程中會對芯片造成一些浪費,從而對LED芯片制造企業帶來成本壓力。另外,SMEE光刻機還提高了做電極時套刻的精度。SMEE可以說是做到了行業內最高精度,這主要得益于其設備高精度的運動臺,在套刻時精度可以達到200納米以下,國外廠商設備基本上與之有一個微米的精度差距。“對于LED芯片制造企業來說,SMEE光刻機可以應付兩臺國外設備能力,可以在保證產能前提下,為企業節省成本投入,這也是眾多企業選擇SMEE光刻機的原因之一。”李志丹說。
一流服務:愿與客戶共同成長
對于價格昂貴的高科技設備,客戶在考慮選擇購買時,不只關注其設備品質的優良,更加看重企業在售后服務中的表現。SMEE在不但從品質上讓客戶放心,在售后服務環節更做到了讓客戶滿意。
李志丹告訴記者,SMEE在交付設備時,會跟客戶簽訂協議,為客戶提供專業培訓,并派遣駐場工程師,進行現場指導操作。
除了提供專業技術人員外,SMEE針對標準參數復雜的設備,精心設計了簡單易懂的操作界面,降低了對技術人員的要求,為客戶節省了人員成本開支。同時,光刻機制造的產品可以返工,很大程度地保證了產品的良率,為客戶最大限度地降低了成本。
李志丹說,半導體生產是設備與工藝結合非常密切的行業,我們不能孤立地去看待一個問題。因此,SMEE始終秉承與客戶一起成長的理念,用心打造國際一流的售后服務團隊,愿意與客戶一起探討從設備到工藝上的技術改進,幫助客戶提高工藝水平和產品質量。