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SSLCHINA&IFWS2019丨襯底、外延及生長(zhǎng)裝備(SiC·GaN)分會(huì)日程出爐

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2019-11-06 來(lái)源:中國(guó)半導(dǎo)體照明網(wǎng)瀏覽次數(shù):668
襯底會(huì)員
   一、會(huì)議簡(jiǎn)介

  碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)是重要的第三代半導(dǎo)體材料,在大功率高頻器件中具有重要的應(yīng)用,其材料水平直接決定了器件的性能。其材料技術(shù)已成為全球高技術(shù)領(lǐng)域競(jìng)爭(zhēng)戰(zhàn)略制高爭(zhēng)奪點(diǎn)。
  2019年11月25-27日,第十六屆中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA 2019)暨2019國(guó)際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS 2019)將在深圳會(huì)展中心舉行。本屆論壇由國(guó)家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)主辦。深圳第三代半導(dǎo)體研究院與北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司共同承辦。
  作為論壇的重要組成部分,本屆“襯底、外延及生長(zhǎng)裝備”分會(huì)主題涵蓋碳化硅和GaN生長(zhǎng)材料、襯底、同(異)質(zhì)外延薄膜、測(cè)試表征和相關(guān)的設(shè)備,將特別邀請(qǐng)國(guó)內(nèi)外知名專家參加,對(duì)SiC和GaN從機(jī)理到工業(yè)化進(jìn)程進(jìn)行系統(tǒng)的探討。
  其中,北京大學(xué)物理學(xué)院教授, 理學(xué)部副主任沈波,山東大學(xué)教授,晶體材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室副主任徐現(xiàn)剛, 日本電力中央研究所坂田修身,德國(guó)ORCHESTRA總裁Guido COLOMBO, 美國(guó)亞利桑那州立大學(xué)助理教授鞠光旭,美國(guó)Aymont Technology Inc總裁Larry B. Rowland,俄羅斯STR Group, Inc.資深研發(fā)工程師Andrey SMIRNOV,美國(guó)NAURA-Akrion, Inc.首席技術(shù)官Ismail I. KASHKOUSH等來(lái)自國(guó)內(nèi)外高校、科研院所、企業(yè)的精英代表齊聚一堂,分享前沿研究成果。
 
  時(shí)間:2019年11月26日下午14:00-17:30
  地點(diǎn):深圳會(huì)展中心·五層菊花廳
 
  分會(huì)組織機(jī)構(gòu)
  主辦單位:
  國(guó)家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)
  第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)
  協(xié)辦單位:
  中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司




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