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【IFWS2020】功率電子器件及封裝技術(shù)前沿展望之氮化鎵專場

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2020-11-10 來源:中國半導(dǎo)體照明網(wǎng)瀏覽次數(shù):796
2020年11月23-25日,第十七屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA 2020)暨2020國際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS 2020)將在深圳會(huì)展中心舉行。本屆論壇由國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)主辦。南方科技大學(xué)與北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司共同承辦。
功率電子器件及封裝技術(shù)
其中,功率電子器件及封裝技術(shù)分會(huì)主題涵蓋碳化硅/氮化鎵電力電子器件的新結(jié)構(gòu)與新工藝開發(fā)、碳化硅/氮化鎵功率電子器件柵驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)、高效高速碳化硅/氮化鎵功率模塊設(shè)計(jì)與制造,碳化硅/氮化鎵封裝技術(shù)和碳化硅/氮化鎵功率應(yīng)用與可靠性等。分會(huì)將邀請國內(nèi)外知名專家參加本次會(huì)議,呈現(xiàn)碳化硅/氮化鎵功率電子器件及封裝技術(shù)研究與應(yīng)用的最新進(jìn)展。
 
浙江大學(xué)教授盛況與電子科技大學(xué)教授張波共同擔(dān)任分會(huì)中方主席,美國弗吉尼亞大學(xué)教授、天津大學(xué)教授陸國權(quán)與加拿大多倫多大學(xué)教授吳偉東共同擔(dān)任分會(huì)外方主席。中國電子科技集團(tuán)公司第五十五研究所研究員柏松、西安電子科技大學(xué)教授張進(jìn)成、大連芯冠科技有限公司總經(jīng)理梁輝南、西安交通大學(xué)教授王來利、中山大學(xué)教授劉揚(yáng)等精英專家們擔(dān)任分會(huì)委員。
 
SiC和GaN作為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,也代表了功率電子器件的發(fā)展方向,在新一代高效率、小尺寸的電力轉(zhuǎn)換與管理系統(tǒng)、新能源汽車、工業(yè)電機(jī)等領(lǐng)域具有巨大的發(fā)展?jié)摿Α?br />  
本屆分會(huì)的氮化鎵專場,美國康奈爾大學(xué)電氣和計(jì)算機(jī)工程教授Huili Grace XING,南方科技大學(xué)深港微電子學(xué)院院長、教授于洪宇,中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所研究員孫錢,中國空間技術(shù)研究院北京衛(wèi)星制造廠宇航電源產(chǎn)品首席專家萬成安,電子科技大學(xué)教授周琦,北京大學(xué)副教授王茂俊,華南師范大學(xué)教授王幸福,中山大學(xué)黎城朗等來自國內(nèi)外高校、科研院所、企業(yè)的精英代表圍繞著氮化鎵功率器件及封裝技術(shù)主題將帶來精彩報(bào)告,分享前沿研究成果,值得期待。
 
緊扣國家“新基建”、“十四五”等前瞻利好政策,以“把握芯機(jī)遇·助力新基建”為主題,屆時(shí)兩場國際性盛會(huì)同臺亮相,先進(jìn)技術(shù)熱點(diǎn)高度聚焦,政產(chǎn)學(xué)研用行業(yè)領(lǐng)袖齊聚,共商未來產(chǎn)業(yè)發(fā)展大計(jì)。
 
11月23-25日,深圳會(huì)展中心見!

會(huì)議具體議程如下:
 
氮化鎵專場-P202功率電子器件及封裝技術(shù)
 
更多大會(huì)詳細(xì)設(shè)置與內(nèi)容請參加大會(huì)官網(wǎng):
http://www.sslchina.org/
 
部分嘉賓
盛況
分會(huì)中方主席:盛況  浙江大學(xué)浙江大學(xué)電氣工程學(xué)院院長,求是特聘教授
長期從事硅基和寬禁帶電力電子芯片、封裝及應(yīng)用研究,包括芯片設(shè)計(jì)與工藝、器件封裝與測試以及在智能電網(wǎng)、軌道交通、新能源汽車、工業(yè)電機(jī)、各類電源等領(lǐng)域中的應(yīng)用,2009年回國創(chuàng)建浙江大學(xué)電力電子器件實(shí)驗(yàn)室(Power Electronic Device Lab, PEDL),是國內(nèi)較早開展碳化硅和氮化鎵電力電子器件研發(fā)的團(tuán)隊(duì)。
 
團(tuán)隊(duì)承擔(dān)了電力電子器件及應(yīng)用領(lǐng)域的多個(gè)國家級、省部級和橫向合作項(xiàng)目,包括國家重大科技專項(xiàng)、國家863主題項(xiàng)目及課題、國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目及課題、自然科學(xué)基金委杰出青年基金、自然科學(xué)基金委重點(diǎn)項(xiàng)目等十余項(xiàng),在器件理論、芯片研制、器件封測和應(yīng)用方面取得了一些成果,包括最早報(bào)道了碳化硅(SiC)功率集成芯片、在國內(nèi)較早自主研制出了系列SiC芯片和模塊(600V~6000V/最高300A,SBD、JBS、MPS、JFET、MOSFET)、提出溝槽型超級結(jié)SiC肖特基二極管設(shè)計(jì)方法并報(bào)道了1300V(不包括襯底0.36 mΩ?cm2,品質(zhì)因子FOM達(dá)國際前列)SiC超級結(jié)二極管、提出新型垂直型氮化鎵晶體管結(jié)構(gòu)并報(bào)道了FOM處國際前列的芯片、基于新型單驅(qū)動(dòng)方法的10kV/200A碳化硅MOSFET多芯片串-并聯(lián)模塊、首款10kVA基于全碳化硅器件的高壓電力電子變壓器、合作開發(fā)了高壓大容量硅基IGBT芯片等。
張波
分會(huì)中方主席:張波  電子科技大學(xué)教授
從1980年代起即致力于新型功率半導(dǎo)體技術(shù)研究,多次擔(dān)任國際會(huì)議功率半導(dǎo)體分會(huì)主席,2010年成為國際功率半導(dǎo)體器件與功率集成電路學(xué)術(shù)會(huì)議(ISPSD)技術(shù)委員會(huì)(TPC)成員(全球功率半導(dǎo)體最高級別專業(yè)會(huì)議,張波教授是近年來首次進(jìn)入該技術(shù)委員會(huì)的國內(nèi)學(xué)者),2015年ISPSD大會(huì)副主席。目前帶領(lǐng)電子科技大學(xué)功率集成技術(shù)實(shí)驗(yàn)室(PITEL)主攻功率半導(dǎo)體技術(shù)研究。
 
電子科技大學(xué)功率集成技術(shù)實(shí)驗(yàn)室(PITEL)是“電子薄膜與集成器件國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室”和“電子科技大學(xué)集成電路研究中心”的重要組成部分。被國際同行譽(yù)為“全球功率半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域最大的學(xué)術(shù)研究團(tuán)隊(duì)”和“功率半導(dǎo)體領(lǐng)域研究最為全面的學(xué)術(shù)團(tuán)隊(duì)”。實(shí)驗(yàn)室瞄準(zhǔn)國際一流,致力于功率半導(dǎo)體科學(xué)和技術(shù)研究,研究內(nèi)容涵蓋分立器件(從高性能功率二極管MCR、雙極型功率晶體管、功率MOSFET、IGBT、MCT到RF LDMOS,從硅基到SiC和GaN)、可集成功率半導(dǎo)體器件(含硅基、SOI基和GaN基)和功率集成電路(含高低壓工藝集成、高壓功率集成電路、電源管理集成電路、數(shù)字輔助功率集成及面向系統(tǒng)芯片的低功耗集成電路等)。
 
近年來,實(shí)驗(yàn)室共發(fā)表SCI收錄論文300余篇。在電子器件領(lǐng)域頂級刊物《IEEE Electron Device Letters》和《IEEE Transactions on Electron Devices》上共發(fā)表論文60余篇。繼2012年在EDL上發(fā)表7篇論文,論文數(shù)位列全球前列以后,2015年在TED上發(fā)表8篇文章,論文數(shù)再次列全球前三(在固態(tài)功率與高壓器件領(lǐng)域居全球第一)。
 
實(shí)驗(yàn)室在功率半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域已申請中國發(fā)明專利800余項(xiàng),與企業(yè)合作承擔(dān)了國家高技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展計(jì)劃、四川省產(chǎn)業(yè)發(fā)展關(guān)鍵重大技術(shù)項(xiàng)目、江蘇省產(chǎn)業(yè)化轉(zhuǎn)化項(xiàng)目、廣東省教育部產(chǎn)學(xué)研結(jié)合項(xiàng)目、粵港關(guān)鍵領(lǐng)域重點(diǎn)突破項(xiàng)目等產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目;面向市場研發(fā)出100余種產(chǎn)品;為企業(yè)開發(fā)出60V-600V功率MOS、600V-900V超結(jié)(SJ)MOS、IGBT、120V-700V BCD、高壓SOI等生產(chǎn)平臺,部分產(chǎn)品打破國外壟斷、實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn),已銷售數(shù)億只。
陸國權(quán)
分會(huì)外方主席:陸國權(quán)  美國弗吉尼亞理工大學(xué)終身教授
1992年進(jìn)入美國弗吉尼亞理工大學(xué)工作,曾獲美國國家自然科學(xué)基金Career獎(jiǎng),2003年成為弗吉尼亞理工大學(xué)終身教授,美國弗吉尼亞理工大學(xué)電力電子系統(tǒng)研究中心CPES骨干科學(xué)家。他已成功在功率半導(dǎo)體器件和模塊中實(shí)現(xiàn)倒裝焊、球柵陣列和旋渦陣列連接,雙面冷卻封裝,平面化封裝等專利技術(shù)。他是納米銀焊膏的專利發(fā)明人,曾獲得美國R&D 100大獎(jiǎng)。迄今他已先后在電子封裝期刊及會(huì)議發(fā)表學(xué)術(shù)論文逾220篇,其中100余篇被SCI收錄。授權(quán)美國發(fā)明專利4項(xiàng),公開發(fā)明專利1項(xiàng),授權(quán)中國發(fā)明專利6項(xiàng),公開中國發(fā)明專利13項(xiàng)。
吳偉東
分會(huì)外方主席吳偉東  加拿大多倫多大學(xué)電子與計(jì)算機(jī)工程學(xué)部教授
研究領(lǐng)域涵蓋智能功率半導(dǎo)體器件及其制作工藝,他尤其擅長功率管理集成電路、集成電源開關(guān)和集成D類音頻功率放大器的開發(fā)。1990年獲得多倫多大學(xué)的博士學(xué)位后,吳教授加入德州儀器公司,開發(fā)適用于汽車應(yīng)用的功率晶體管。1992年吳教授加入香港大學(xué)開始學(xué)術(shù)研究生涯。1993年,吳教授加入多倫多大學(xué),組建了智能功率集成電路和半導(dǎo)體器件研究團(tuán)隊(duì),擁有智能功率集成電路和射頻領(lǐng)域CMOS技術(shù)研發(fā)與改進(jìn)的豐富閱歷。
Huili Grace XING
Huili Grace XING   美國康奈爾大學(xué)電氣和計(jì)算機(jī)工程教授
研究重點(diǎn)是III-V型氮化物,2-D晶體,氧化物半導(dǎo)體,最近研究多鐵性材料,磁性和超導(dǎo)材料的開發(fā):生長,電子和光電器件,尤其是材料性能與器件開發(fā)以及高性能器件之間的相互作用,包括RF / THz器件,隧道場效應(yīng)晶體管,功率電子器件,DUV發(fā)射器和存儲(chǔ)器。她曾獲得AFOSR青年研究者獎(jiǎng),NSF職業(yè)獎(jiǎng)和ISCS青年科學(xué)家獎(jiǎng)。
于洪宇
于洪宇  南方科技大學(xué)深港微電子學(xué)院院長、教授
在第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域承擔(dān)了與華為/方正微電子等公司的橫向課題,使得GaN功率器件在其公司的p-line生產(chǎn),目前承擔(dān)一項(xiàng)6寸硅基GaN功率器件產(chǎn)業(yè)化的廣東省重大專項(xiàng)。在電子陶瓷領(lǐng)域創(chuàng)辦南灣通信科技有限公司,成功吸引天使投資1500萬用于量產(chǎn)介質(zhì)濾波器。在集成電路工藝與器件方面,包括CMOS、新型超高密度存儲(chǔ)器、GaN器件與系統(tǒng)集成(GaN HEMT) 、以及電子陶瓷方面發(fā)表學(xué)術(shù)論文近400篇,其中近180篇被SCI收錄,總他引次數(shù)近5000次,H 影響因子為39。編輯2本書籍并撰寫了4本專業(yè)書籍的章節(jié)。發(fā)表/被授予近20 項(xiàng)美國/歐洲專利以及30項(xiàng)以上國內(nèi)專利。數(shù)十次做國際學(xué)術(shù)會(huì)議邀請報(bào)告,擔(dān)任若干國際會(huì)議TPC member 以及session chair。任中國最高綜合類學(xué)術(shù)期刊Science Bulletin(科學(xué)通報(bào)英文版)副主編以及《Journal of Semicondictor》編輯。作為項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,承擔(dān)超過7000萬人民幣國家/省/市/以及橫向科研項(xiàng)目(包括新加坡主持項(xiàng)目)。

代表南科大與第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟共同成功籌建深圳第三代半導(dǎo)體研究院,并擔(dān)任副院長。與清華大學(xué)共同牽頭成功籌建廣東省未來網(wǎng)絡(luò)高端器件制造業(yè)創(chuàng)新中心,成功籌建南科大深港微電子學(xué)院(被教育部批準(zhǔn)為國家示范性微電子學(xué)院)以及未來通信集成電路教育部工程研究中心。牽頭組建深圳市第三代半導(dǎo)體重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、廣東省GaN器件工程技術(shù)中心,并成立團(tuán)隊(duì)。入選首批國家“千人計(jì)劃”(青年項(xiàng)目),廣東省科技創(chuàng)新領(lǐng)軍人才,享受深圳市政府特殊津貼,英國工程技術(shù)學(xué)會(huì)會(huì)士(Fellow of IET)。
孫錢
孫錢  中科院蘇州納米所研究員
中國科技大學(xué)材料物理和計(jì)算機(jī)科學(xué)與技術(shù)雙學(xué)士(郭沫若校長獎(jiǎng)獲得者)、美國耶魯大學(xué)博士(耶魯工學(xué)院Becton獎(jiǎng)獲得者),國家技術(shù)發(fā)明一等獎(jiǎng)獲得者,國家優(yōu)秀青年基金獲得者,首批國家特聘青年專家,江蘇省“雙創(chuàng)人才”,中國電子學(xué)會(huì)優(yōu)秀科技工作者。現(xiàn)任中科院蘇州納米所研究員、博導(dǎo)、器件部副主任。
 
長期致力于硅基III族氮化物半導(dǎo)體材料生長與光電子及功率電子器件制備研究。通過與企業(yè)的產(chǎn)學(xué)研實(shí)質(zhì)性合作,帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)研發(fā)出硅襯底GaN基高效LED的外延及芯片技術(shù),并在全球率先產(chǎn)業(yè)化,年銷售逾4億元。2016年成功研制出國際上首支硅襯底GaN基激光器,入選中國光學(xué)重要成果和科技部高新技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新進(jìn)展報(bào)告。近5年來主持承擔(dān)了國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃課題、863計(jì)劃課題、中科院前沿科學(xué)重點(diǎn)研究項(xiàng)目、中科院科技服務(wù)網(wǎng)絡(luò)STS計(jì)劃區(qū)域重點(diǎn)項(xiàng)目、江蘇省重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目等。
 
迄今為止,在NaturePhotonics、Light: Science & Applications等國際學(xué)術(shù)期刊上發(fā)表了100余篇學(xué)術(shù)論文,是30余項(xiàng)美國和中國發(fā)明專利的發(fā)明人。應(yīng)邀在國際氮化物半導(dǎo)體學(xué)術(shù)會(huì)議和產(chǎn)業(yè)論壇上作特邀報(bào)告40余次。現(xiàn)兼任中國物理學(xué)會(huì)發(fā)光分會(huì)第十四屆委員會(huì)委員、中國激光雜志社青年編輯委員會(huì)委員、《半導(dǎo)體學(xué)報(bào)》第十二屆編輯委員會(huì)委員、《發(fā)光學(xué)報(bào)》第一屆青年編輯委員會(huì)委員、SEMI中國功率及化合物半導(dǎo)體委員會(huì)委員。
萬成安
萬成安  中國空間技術(shù)研究院北京衛(wèi)星制造廠宇航電源產(chǎn)品首席專家
萬航天科技集團(tuán)公司電源與供配電學(xué)科帶頭人,航天五院宇航電源產(chǎn)品首席專家,多年從事空間電源及能源系統(tǒng)技術(shù)研究工作。獲發(fā)明專利10項(xiàng),發(fā)表論文50余篇。
周琦
周琦  電子科技大學(xué)教授
專注于第三代寬禁帶新型半導(dǎo)體材料、器件及其集成技術(shù)的研究,尤其在氮化鎵(GaN)功率器件新結(jié)構(gòu)、模型/器件物理、先進(jìn)制備工藝與GaN功率集成技術(shù)領(lǐng)域具有較好的研究基礎(chǔ)。開發(fā)出一款硅基GaN(GaN-on-Si)柵控橫向功率整流器新結(jié)構(gòu),器件性能達(dá)到國際報(bào)道的同類器件最高水平。開發(fā)出一種高效、低損傷原子層刻蝕技術(shù),利用該技術(shù)制備的增強(qiáng)型GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)器件性能達(dá)到國際領(lǐng)先水平。
研究成果發(fā)表于行業(yè)頂級期刊《IEEE Electron Device Letters》、《IEEE Trans. on Electron Devices》、《IEEE Microwave and Wireless Components Letter》及國際頂級會(huì)議IEDM、ISPSD。目前已在IEEE EDL、IEEE TED、IEEE MWCL等本領(lǐng)域頂級期刊和IEDM、ISPSD等國際頂級會(huì)議共發(fā)表論文52篇。研究成果被功率半導(dǎo)體世界最著名學(xué)者J. B. Baliga (IEEE fellow, 2010年美國國家科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)獲得者)發(fā)表于Semicond. Sci. and Tech.的 Invited Review Paper及中國科學(xué)院院士郝躍教授的綜述性文章作為高壓 InAlN/GaN HEMT的代表性工作所引用。參加國際重要學(xué)術(shù)會(huì)議15次,邀請報(bào)告1次,口頭報(bào)告4次。申請中國發(fā)明專利5項(xiàng)。被IEEE-TED和IEEE-EDL評為2013及2014年度金牌審稿人(Golden Reviewers)。
王茂俊
王茂俊 北京大學(xué)微納電子學(xué)系 副教授
主要從事GaN、Ga2O3等寬禁帶半導(dǎo)體功率電子器件的結(jié)構(gòu)、工藝及可靠性物理研究,在國際主流期刊和會(huì)議上發(fā)表學(xué)術(shù)論文50余篇,承擔(dān)了自然基金、重點(diǎn)研發(fā)等多項(xiàng)課題。
 
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