IMEC已經證明：氮化鎵層均勻性的顯著提高和威科推進系統的運行重復性大大提高了發電設備產量。單個晶片反應器采用威科公司專有的TurboDisc技術，該技術能提供卓越的膜均勻性，良好的運行控制和比批處理反應堆更優的缺陷水平。

 

　　IMEC智能系統和能源技術的高級副總裁Rudi Cartuyvels說：“在與硅基氮化鎵相關的產業框架中，在過去的四年間，威科和IMEC合力提高硅襯底氮化鎵外延片的質量。我們的最終目標是生產下一代高功率開關器件。2016年我們已經設定了非常高的氮化鎵器件產量和可靠性目標，我們期待著與威科公司實現這些目標。”

 

　　IHS的研究表明產業需求日益增長，需要更小、更節能的電源ICs。這一點，反過來，推動使用先進的材料來改進功率器件。硅基氮化鎵加上完善的工藝方案，如單晶氮化鎵 MOCVD是改進這些功率器件發展的關鍵。

 

　　威科MOCVD運營的高級副總裁兼總經理吉姆·簡森說：“我們非常高興與IMEC合作。全球對高效能、小外形因素，強可靠性的先進電力電子產品的需求量越來越大。我們相信，我們推動單晶片系統的技術將使IMEC實現功率器件的目標，有助于使這些先進的設備加速進入市場。”