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法國國家科學(xué)研究中心(CNRS)科學(xué)家Cyril BUTTAY:10 kV SiC MOSFET封裝之電氣和熱性能之間的權(quán)衡

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2018-10-31 來源:中國半導(dǎo)體照明網(wǎng)瀏覽次數(shù):466
   2018年10月23-25日,由國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)、深圳市龍華區(qū)人民政府主辦的第十五屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA 2018)暨2018國際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS 2018)在深圳會展中心舉行。
 
  本屆論壇將以“創(chuàng)芯聚智 共享生態(tài)”主題,其中,IFWS 2018圍繞第三代半導(dǎo)體的前沿發(fā)展和技術(shù)應(yīng)用,設(shè)置了包括固態(tài)紫外器件技術(shù)、碳化硅材料與電力電子器件技術(shù)、氮化鎵材料與電力電子器件技術(shù)等多個專場分會重點討論。全面覆蓋行業(yè)基礎(chǔ)研究、襯底外延工藝、電力電子器件、電路與模塊、下游應(yīng)用的創(chuàng)新發(fā)展,提供全球范圍的全產(chǎn)業(yè)鏈合作平臺。
 
  10月25日上午,IFWS 2018之“功率器件封裝與應(yīng)用”分會召開。分會主題涵蓋寬禁帶半導(dǎo)體電力電子器件封裝設(shè)計、工藝、關(guān)鍵材料與可靠性評價等方面,邀請國內(nèi)外知名與家參加本次會議展示寬禁帶半導(dǎo)體電力電子器件封裝技術(shù)及其可靠性評價的最新進展。
 
  法國國家科學(xué)研究中心(CNRS)科學(xué)家Cyril BUTTAY,天津大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院教授、弗吉尼亞理工大學(xué)終身教授陸國權(quán),西安交通大學(xué)教授王來利,重慶大學(xué)教授葉懷宇,南京電子器件研究所寬禁帶半導(dǎo)體電力電子器件國家重點實驗室副主任、研究員黃潤華,中國科學(xué)院電工研究所研究員寧圃奇,香港應(yīng)用科技研究院有限公司電子元件部高級經(jīng)理李天河等中外同行專家,帶來精彩報告,并分享各自的最新研究成果。天津大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院教授、弗吉尼亞理工大學(xué)終身教授陸國權(quán)主持了本屆分會。
Cyril BUTTAY
 
  會上,法國國家科學(xué)研究中心(CNRS)科學(xué)家Cyril BUTTAY帶來了10 kV SiC MOSFET封裝之電氣和熱性能之間的權(quán)衡的報告。碳化硅晶體管可以實現(xiàn)10kV以上的阻塞電壓。這使得它們對能量傳輸和分配有很強的吸引力。雖然理論上SiC設(shè)備可以工作在高溫(超過200°C),SiC場效應(yīng)管的開態(tài)電阻強烈依賴于結(jié)溫。Cyril BUTTAY表示,研究結(jié)果表明,這些晶體管必須實際操作在一個相對較低的結(jié)溫(小于100°C)來提高轉(zhuǎn)換效率,防止熱失控。這種對高性能冷卻系統(tǒng)的要求對封裝技術(shù)產(chǎn)生了影響:相應(yīng)的電源模塊必須既具有高電壓絕緣又具有低熱阻。特別地,在碳化硅裝置和冷卻系統(tǒng)之間的陶瓷基板的厚度之間有一個權(quán)衡。Cyril BUTTAY及其研究團隊提出并證明了一種新的襯底結(jié)構(gòu),其特點是提高了襯底的電壓強度而不增加襯底的厚度。
 
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